設(shè)備的選購問題一直是我們所關(guān)注的重點，下面，我們來介紹下關(guān)于能量色散X射線熒光光譜儀主要組件的選擇，供大家借鑒參考。
一、氣氛
 X射線熒光光譜儀能夠分析元素周期表中的大部分元素，具體而言，從鈉元素（原子序數(shù)Z=11）到鈾元素（原子序數(shù)Z=92）都可以利用這種技術(shù)進(jìn)行檢測分析。但是對于原子序數(shù)較低的元素（鈦元素Ti，Z=22以下），空氣會對檢測結(jié)果產(chǎn)生較大影響；由低原子序數(shù)元素產(chǎn)生的熒光值通常更低，并且樣品基體中的其它元素有可能會吸收低原子序數(shù)元素的能量輻射。
通常情況下，用于提高低原子序數(shù)元素的檢測靈敏度的方法主要為將儀器的樣品室抽成真空環(huán)境或者以氦氣(He)沖洗樣品室。
二、探測器
探測器技術(shù)——硅漂移探測器（SDDs）能夠提高低能量敏感度，使得X射線熒光光譜技術(shù)可以對一些低原子序數(shù)元素進(jìn)行檢測分析，甚至是在空氣氣氛中也能進(jìn)行檢測，例如用于測量化學(xué)鍍鎳涂層中磷元素（原子序數(shù)Z=15）的含量。但是，大多數(shù)的低原子序數(shù)元素的檢測分析依然還需要隔離空氣氣氛。
在能量色散X射線熒光光譜儀中，硅探測器已經(jīng)變得非常普遍；今天用到的硅探測器要么就是上面提到的硅漂移探測器，要么就是Si-PIN探測器，而比較流行的第三種探測器是一種密封的、充氣的正比計數(shù)器（Prop Counter）。
對于不同的應(yīng)用用途，X射線熒光光譜儀體系中探測器的選擇也不盡相同——例如對于定性分析往往需要用到硅漂移探測器。
正比計數(shù)器探測器較大的半寬高（FWHM）會導(dǎo)致相鄰元素的檢測譜圖嚴(yán)重重疊，以至于利用峰值搜索算法和/或可見光譜觀察法都無法探測出其中某種或者多種成分的存在。對于一些需要鑒別元素成分的工業(yè)制造品，其質(zhì)量檢驗結(jié)果由于發(fā)生嚴(yán)重重疊，難以分辨，造成難以檢測。
雖然利用硅探測器也會發(fā)生譜圖上的峰重疊現(xiàn)象，但在大多數(shù)的情況下，這些重疊峰能夠被輕易的分離和識別，這些特征使得硅探測器體系其適用于定性分析和來料檢驗等方面。
組成能量色散X射線熒光光譜儀的電子器件一般都非常穩(wěn)定，不會影響分析精度；而無規(guī)計數(shù)誤差通常對測量精度的影響較大。計數(shù)誤差一般遵循泊松統(tǒng)計分布——每次測量獲得的數(shù)據(jù)越多，測量精度越高。
硅漂移探測器具有很高的數(shù)據(jù)吞吐量，因此當(dāng)測量需要多采樣、時可以考慮使用這種探測器；但這通常需要樣品具有較高的熒光強度值。熒光強度值取決于樣品——如樣品類型，樣品測量區(qū)域等。
在分析測量一些薄膜或者小樣品時，樣品的特性可能會很微小。當(dāng)樣品或者樣品區(qū)很小（直徑只有幾十微米）時，探測器的立體角則會起到很大的作用。而樣品或樣品區(qū)很小的情況往往都發(fā)生在測量電子元件和功能性涂層厚度等時候，這時正比計數(shù)器（Prop Counter）就成為了一種非常受歡迎的選擇，因為這種探測器具有的大俘獲角允許可以使用更小的準(zhǔn)直儀。因此，當(dāng)樣品譜圖相對簡單，含有元素只有兩到三種，樣品分析區(qū)域直徑小到100-200微米時，正比計數(shù)器Prop Counter則是一個非常理想的選擇。
三、X射線源（X射線管、供電電源、濾光片、光束尺寸）
這里將一些組件都列到X射線源里面統(tǒng)一討論，包括X射線管、電源供應(yīng)器、濾光片、光束尺寸。
X射線管和供電電源決定了檢測樣品將受到的能量強度和能量分布。商業(yè)化的能量色散X射線熒光光譜儀中用到的大多數(shù)X射線管都是50KV，1mA（50W）規(guī)格的。50KV的高電壓能夠提供更高的激發(fā)效率；X射線管通量可以利用燈絲電流設(shè)置進(jìn)行控制。
X射線管本質(zhì)上是一個在高電壓下工作的二管，包括一個發(fā)射電子的陰和一個收集電子的陽（也即靶材）；比較常用的陽材料有鎢（W）、銠（Rh）、鉬（Mo）和鉻（Cr）等，其中鎢（W）和銠（Rh）使用為廣泛。鎢金屬能夠產(chǎn)生更強的軔致輻射，也因此能得到更高的能量（17-30KeV）激發(fā)效率。對于低原子序數(shù)元素的激發(fā)，則通常選取銠（Rh）元素。
濾光片通常置于X射線管窗和樣品之間以過濾由X射線管產(chǎn)生的特定能量波。濾光片主要起到兩方面作用：
一是當(dāng)X射線管可能會對樣品中待檢測元素產(chǎn)生影響時去除管特征譜的干擾；
二是去除光譜背景的主要來源——背散射輻射。光譜背景峰的去除能夠有效提高峰/背比響應(yīng)值，提高檢出限。
光束尺寸通常由具有不同直徑的圓形（有時也為矩形）準(zhǔn)直器控制；準(zhǔn)直器尺寸與準(zhǔn)直器到樣品間的距離決定了其分析領(lǐng)域。